製剤技術とGMPの最先端技術情報

交叉汚染防止や苦情/製品回収を招く品質不良低減へ
PIC/S GMP改訂版公開、関連ガイドラインも発出でリスクベースアプローチ推進 (1/2)

 2018年6月20日付で、PIC/Sは「Revision of PIC/S GMP Guide」および「New PIC/S Guidance Documents」とするリリースを発出し、GMPガイド...

この記事は会員限定です。会員登録すると最後までお読みいただけます。

前のページへ戻る

この記事に関連する商材情報

関連記事

こちらの記事もご覧ください

TOP