PIC/S、共用設備における交叉汚染防止のリスクベース対応とHBELに関するQ&A発出(1/3)

 PIC/Sは2020年6月1日付で、共用設備における交叉汚染防止のためのQ&Aを発出した。 全13のQ&Aからなり、「共用設備(PI 046)における異なる医薬品の製造におけるリスク...続きは会員登録(無料)いただくとご覧いただけます。

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