半導体製造における前工程の基礎入門～シリコンウェハ作製から前工程を中心として～

☆半導体製造おける「前工程編(11/12)／後工程編(11/13)」の2日間講座！
☆前工程編のみ／後工程編のみ／両日参加のご選択が可能です。
　個人参加や複数名参加等々、皆さまからのお申込みをお待ちしております！

【テーマ名】
半導体製造における前工程の基礎入門
～シリコンウェハ作製から前工程を中心として～

【講師】
駒形技術士事務所
所長
技術士(電気電子部門)
駒形信幸 氏

【経歴】
　大学院時代から一貫して半導体デバイスの開発に従事。大手半導体メーカー勤務後、車載用半導体の前工程・後工程開発、歩留まり向上、不良解析、教育と広範囲に担当した。
　大学院では、光コンピュータ用面発光半導体レーザー／LEDの開発に成功、国際特許を取得。就職後は、世界初1.3μｍ～0.8μｍLDD(Lightly Doped Drain)CMOS LSIデバイスの開発に従事し、各種特性カーブの測定、ウェハ自動測定、ホットキャリア評価、SST(Secondly Slow Trap)評価、EM(Electro-Migration)評価、TEG設計・評価を担当した。
　その後、LED、LSI及びパワー系ベアチップ実装技術開発を担当し製品化。更に、自動車のエアバック半導体式加速度センサを開発後、同様な技術を応用できる半導体式圧力センサを開発した。次に、自動車の操舵角センサ用のフォトICの開発を、ベンチマークから始めて設計、開発、生産、検査と広範囲に渡り担当し量産化した。
　その後は、磁気センサICの磁場印可レーザートリミング装置を開発。更に、バイポーラICのトランジスタのhFE低下現象を解明し、対策を行うことで、歩留まり向上に貢献。それから、サイリスタ効果による耐圧低下現象を解明し対策した。
　また、技能者向け教育では、半導体製品製造技能士の育成（チップ製造、集積回路組立て、学科・実技、1級・2級受験対策）のためテキストを自作し定期的に講習を行うことで約13年間に渡り100%の合格率と延べ100名以上の合格者の輩出を達成した。
　技術者向け教育では、半導体デバイス、半導体プロセス、実装、半導体回路（アナログ）、磁気回路・磁気センサ、制御工学、マイクロコンピュータ（ディジタル回路を含む）のテキストを自作し講習を行い、専門技術者を養成した。

【専門および得意な分野・研究】
・半導体デバイス開発
・半導体プロセス開発、工程管理
・半導体実装工程開発、工程管理
・半導体分析
・デバイス性能評価
・教育（現場、スタッフ）
・人工知能AI（機械学習）プログラミング

【所有資格】
・技術士（電気電子部門）デバイス応用　電子デバイス
・半導体製品製造（集積回路チップ製造作業）1級技能士
・高圧ガス製造保安責任者（乙種機械）
・危険物取扱者（乙種四類）
・英語検定準1級

【本テーマ関連学協会での活動】
・日本技術士会正員
・応用物理学会正員
（フォト二クス分科会、応用電子物性分科会、薄膜・表面物理分科会、結晶工学分科会、超電導分科会、有機分子・バイオエレクトロニクス分科会、プラズマエレクトロニクス分科会、シリコンテクノロジー分科会、先進パワー半導体分科会所属）
・電子情報通信学会正員
（基礎・境界ソサイエティ、通信ソサイエティ、エレクトロニクスソサエティ、情報システムソサイエティ、ヒューマンコミュニケーショングループ所属）

【日時(オンライン配信)】
2024年11月12日(火)　10:30-16:30

【受講料(単日参加)】
●見逃し視聴なし：1名47,300円(税込（消費税10％）、資料付)
　＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

●見逃し視聴あり：1名52,800円(税込（消費税10％）、資料付)
　＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

【受講料(両日参加)】
●見逃し視聴なし：1名72,600円(税込（消費税10％）、資料付)
　＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき61,600円⇒割引は全ての受講者が両日参加の場合に限ります

●見逃し視聴あり：1名81,400円(税込（消費税10％）、資料付)
　＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき70,400円⇒割引は全ての受講者が両日参加の場合に限ります

※詳細な内容やお申込み要領等は、下段「セミナーホームページを見る」をご参照ください。

【セミナーの内容】
■講座のポイント
　最近のニュースで半導体が注目されていますが、半導体産業の全体像が理解されていないため、「半導体」という言葉に混乱している方が多く見受けられます。これは、製造業の経営者のみならず、半導体技術者を目指す方々にも共通の課題です。半導体産業は地理的、製造装置、材料、技術の面で広範囲にわたる巨大な産業であり、技術用語や断片的な情報が飛び交う中で、全体像が見失われがちです。
　本セミナーでは、こうした現状を整理し、半導体の特徴を活かした開発・製造方法や、半導体産業に参入するためのポイントを基礎から解説します。さらに、半導体デバイス、プロセス、実装工程、システム設計に必要な知識について、装置や材料の変遷の歴史を踏まえつつ、最新の動向までを包括的にご説明いたします。
　セミナーは2日間にわたって開催され、理解を深めるための構成になっています。第1日目は、ウェハの作製から前工程を中心に解説しますが、単独の受講でも十分に理解できる内容となっています。

■受講後、習得できること
1 半導体産業全体を俯瞰する力
2 半導体産業に参入する判断ポイント
3 半導体プロセスの開発、設計、管理

■本テーマ関連法規・ガイドラインなど
1 高圧ガス保安法
2 危険物規則
3 労働安全法

■講演中のキーワード
1 半導体
2 集積回路
3 デバイス
4 プロセス
5 実装
6 設計
7 研究開発
8 最先端
9 工場

■プログラム項目
（第１日目）
第１章　今、なぜシリコンか？
１．シリコン半導体の特長
２．シリコン vs 化合物半導体
　２‐１．半導体の売り上げ
　２‐２．半導体と用途
３．各種半導体物性比較
４．シリコン資源

第２章　珪石から集積回路の出来るまで
１．珪石から金属シリコンの製造
２．金属シリコンから高純度多結晶シリコンの製造
３．単結晶作製
４．円筒研削とオリフラ、ノッチ加工
５．スライシング
６．ベベリングとラッピング、ポリッシング
７．エピタキシャル成長とSOI
８．前工程
９．後工程

第３章　半導体物理
１．シリコン結晶
２．半導体の導電形
３．ドーパントの種類
４．半導体と周期律表

第４章　半導体プロセス（前工程）概要のパターン
１．基本プロセス
２．プロセスのパターン
３．バイポーラプロセスフロー概略
４．CMOSプロセスフロー概略

第５章　前工程
１．フォトリソグラフィー工程
　１－１．フォトリソグラフィーとは
　１－２．フォトリソグラフィー工程の説明
　１－３．レンズ系の解像力と焦点深度
　１－４．露光用光源
　１－５．各種露光方式
　１－６．レジストコーターとデベロッパー
　１－７．フォトレジスト
　１－８．レチクル（マスク）とペリクル
　１－９．超解像
　１－１０．近接効果補正
　１－１１．フォト工程の不良例
　●演習問題
　●半導体のプロセスノードのお話
　●マルチパターニングのお話　　　　
２．洗浄工程とウェットエッチング工程
　２－１．ウェットプロセスの概要
　２－２．ウェットエッチング
３．酸化・拡散工程
　３－１．目的と原理
　３－２．ドライ酸化とウェット酸化
　３－３．酸化の法則
　３－４．その他の酸化
　３－５．酸化・拡散装置
　３－６．縦型拡散炉の特徴
　３－７．選択酸化
　３－８．ランピング
　３－９．測定装置
　３－１０．熱電対の種類
　３－１１．酸化膜の色と膜厚の関係
４．イオン注入工程
　４－１．イオン注入の目的と原理
　４－２．イオン注入工程の概要
　４－３．イオン注入装置
　４－４．イオン注入装置の各部名称
　４－５．イオン注入で起こる問題
５．CVD工程
　５－１．CVDの原理
　５－２．プラズマのまとめ
　５－３．各種CVD
　５－４．CVD装置外観
　５－５．減圧CVDとステップカバレッジ
　５－６．原子層堆積（ALD）
６．スパッタ工程
　６－１．スパッタの基礎
　６－２．各種スパッタ法
７．ドライエッチング工程
　７－１．ドライエッチングの原理と目的
　７－２．等方性と異方性
　７－３．ドライエッチング工程の概要
　７－４．プラズマエッチングと反応性ドライエッチング
　７－５．ドライエッチングガス
　７－６．反応性イオンエッチング
　７－７．ECRエッチング
　７－８．ケミカルドライエッチング
　７－９．アスペクト比
　７－１０．選択比
　７－１１．ローディング効果
　７－１２．終点検出
８．エピタキシャル成長
　８－１．エピタキシャル成長の基本
　８－２．ヘテロエピタキシャル成長
９．CMP工程
　９－１．CMP工程概要
　９－２．装置概要
　９－３．各部名称と機能・目的
　９－４．CMP適用工程例
１０．電気検査
　１０－１．はじめに
　１０－２．ウェハテストとプローブ検査

【質疑応答】

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