| 開催日 | 2025年9月5日(金) |
|---|---|
| 開催地 | 千葉県 |
JASIS 2025 | アジレント出展社セミナー
10:30~11:00 | 幕張メッセ会議場 104 会議室
ホットプラズマ条件における Na、K のバックグラウンドを飛躍的に低減するイオンレンズを紹介します。半導体分野における金属マトリクス試料中の ppt オーダーの Na、K 分析のソリューションを提供します。
| 開催日 | 2025年9月5日(金) |
|---|---|
| 開催地 | 千葉県 |
JASIS 2025 | アジレント出展社セミナー
10:30~11:00 | 幕張メッセ会議場 104 会議室
ホットプラズマ条件における Na、K のバックグラウンドを飛躍的に低減するイオンレンズを紹介します。半導体分野における金属マトリクス試料中の ppt オーダーの Na、K 分析のソリューションを提供します。
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