製剤技術とGMPの最先端技術情報

交叉汚染防止や苦情/製品回収を招く品質不良低減へ
PIC/S GMP改訂版公開、関連ガイドライン等も発出でリスクベースアプローチ推進 (2/2)

●新規ガイドラインも複数発出 また、GMPガイド改訂とともに、新たに採択されたPIC/Sガイドライン文書は以下のとおり。・共有施設における交叉汚染に関する新たなPIC/S Aide-Memoire(P...続きは会員登録(無料)いただくとご覧いただけます。

会員登録(無料)により、雑誌記事を除くすべての記事閲覧と機能活用ができます。
PHARM TECH JAPAN ONLINEの活用ガイドはこちら

前のページへ戻る

この記事に関連する商材情報

関連記事

こちらの記事もご覧ください

TOP