製剤技術とGMPの最先端技術情報

交叉汚染防止や苦情/製品回収を招く品質不良低減へ
PIC/S GMP改訂版公開、関連ガイドライン等も発出でリスクベースアプローチ推進 (2/2)

●新規ガイドラインも複数発出 また、GMPガイド改訂とともに、新たに採択されたPIC/Sガイドライン文書は以下のとおり。・共有施設における交叉汚染に関する新たなPIC/S Aide-Memoire(P...

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