| 開催日 | 2024年11月21日(木) |
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| 開催地 | Web |
開催日時：11/21(木)11:00-11:45
半導体やディスプレイの生産工程においては、多量の超純水が使用されています。
洗浄工程などで使用される超純水は最終製品の収率に影響することから
その純度を担保するために比抵抗、TOCや溶存酸素といった測定がリアルタイムで実施されています。
本セミナーではそれら超純水管理に欠かせない最新の測定技術を紹介致します！
プログラム
・半導体FABでの超純水使用のアプリケーション
・半導体、ディスプレイ産業用水処理システムへのメトラー・トレドのソリューション
受講対象
・半導体、ディスプレイ製造用超純水管理に携わっている方
・半導体、ディスプレイ産業に水処理システムを構築している方
・純水、超純水管理の最新技術に携わっている方
このオンラインセミナーで得られるベネフィット
・半導体、ディスプレイ製造用超純水管理における最新技術情報の取得
・半導体、ディスプレイ産業用水処理システムへの付加価値情報の取得
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利用システム：Microsoft Teams
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※同業他社様および研究開発の業務に携わらない方のご参加はご遠慮いただく場合がございます。
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