プロセスモニタリングに最適なFT-NIR　MATRIX-F II

MATRIX-F II は理想的なプロセス用装置です。まず分析メソッドの開発のために試験室に独立したシステムとして設置し、その後、プロセス用途に移動させることもできます。またNEMA 4/ IP66 防沫筐体を使用する独立型として、あるいは温度調節付きキャビネット内の標準の 19 インチラックに取り付けて使用することも可能です。MATRIX-F II には、6 ポート光ファイバーマルチプレクサーを装備することもできます。また測定ポイントを追加するための外部マルチプレクサーも用意されています。MATRIX-F II は、最先端のプロセス管理用の FT-NIR テクノロジーです。

現在、多くの企業において、最高品質の最終製品を製造するためだけでなく、製造効率の向上を目的として、試験室の分析テクノロジーを工場にも導入しています。製造プロセスを厳しく管理することにより、原料の使用を最適化し、仕様を外れた原料の製造を削減または排除できるようになります。その結果、加工のやり直しや廃棄のためのコストを回避できます。

化学反応および中間・最終工程の製品品質をダイレクトモニタリングする、プロセス管理アプリケーション:
　・インプロセスのリアクタまたはパイプライン、Web 経由またはコンベヤベルトでの直接測定
　・長距離からのリモート測定
　・プロセスの理解と管理の向上

各種業界でブレンドプロセスの均一性、化学成分の濃度、重合プロセスの状態を確認するための理想的なツールです。
 
FT-NIR は、高効率の石英光ファイバー経由でリモート測定をすばやく実行できるため、プロセス測定のための理想的な分光分析技術です。そのようなファイバー内での信号の減衰は非常に小さく、NIR 光ファイバーケーブルおよびプローブは堅牢で比較的安価であり、広く入手可能です。プロセスプローブは、プロセスストリーム内に直接、分光計から数百メートルの位置に配置することができ、複数のプローブを 1 台の分光計に接続できます。